Nanotech 2025 （2025年1月29日〜31日開催）
nano tech 2025（国際ナノテクノロジー総合展・技術会議）
マテリアル先端リサーチインフラ 秀でた利用成果 ポスター展示
・東京ビッグサイト
OS-101
高精細収束イオンビーム装置 (ZEISS ORION NanoFab)
high definition focused ion beam system
■ 特徴
イオン源に He ガスを採用し、最小ビーム径 0.5nm φ の分解能を有する装置。
【FIB】10nm 以下の微細加工が可能。
【ヘリウムイオン顕微鏡】（He / 0.5nm）中和銃装備のため、絶縁体を導電性処理なしで観察可能で、生体観察にも適している。
■ 仕様
イオン源：He / Ne（希ガス）
最小ビーム径：0.5nm（He）、1.9nm（Ne）
加速電圧：10 ～ 40kV
ET 検出器：二次電子
電子中和銃（Flood gun）装備
GIS：Pt, SiO₂, XeF₂
試料サイズ：45mm φ
設置場所：F-193
装置番号：F11
ARIM装置番号：OS-101
